光催化氧化除臭設備 等離子uv光氧一體機

光催化氧化除臭設備 等離子uv光氧一體機是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設備的*結合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設備的優點組合而成，利用等離子分解技術和UV紫外光解技術相結合，對廢氣和臭氣進行高效協同凈化處理！它具有高效率、運行成本低、設備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在95%以上。是目前市場上優質廢氣凈化設備。

 光催化氧化除臭設備 等離子uv光氧一體機

當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。（在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子安全物質，或使有毒有害物質轉變成無毒無害或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。）

低溫等離子區工作原理：

1.介質阻擋放電產生電子能量高，低溫等離子體密度大，可達到常用等離子技術（電暈放電）的1500倍，幾乎可以擊碎所有有機廢氣的分子鏈；
2.技術反應速度快，氣體通過反應區的流速達到3—15米/秒，也可以達到處理效果；
3.自動化程度高，設備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，對于部分不連續產生廢氣的收集點，可以循環啟動停止解決成本.

去除污染物的基本過程：

過程一：產生高能電子，羥基，臭氧及氧原子；
過程二：高能電子轟擊污染分子；
過程三：自由氧、羥基自由基氧化污染物分子；
過程四：活性基團及分子碎片反應。

UV光氧化區原理：一重破壞、分解，三重催化氧化破壞、分解采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數十倍強度）在設備內，強裂解惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。

催化氧化
1、O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質；
2、催化劑涂層，在C波段激光刺激它產生活性，強化催化氧化作用；
3、在分解過程中產生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*（活性氧）O+O2-O3（臭氧），*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它剌激性異味有*的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺滅菌的目的；

4、催化劑（*）在受到紫外線光照射時生成化學活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。*屬于非溶型材料，在分解有機污染物和殺滅菌的同時，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的殺菌、降解污染物效果。