“刻線衍射光柵,UV反射式”詳細介紹
特性
· 閃耀波長300 nm
· 在閃耀波長下光柵效率高達60%到80%
· 低鬼影:小于主反射的0.5%
· 反射鋁膜
· 鈉鈣玻璃基底,300到1200刻線/mm
· 使用刻線的基底材料生產
Dimensions (W x H x D) | Blaze Wavelength | Grooves/mm | Blaze Angle | Dispersion |
25 mm x 25 mm x 6 mm | 300 nm | 300 | 2° 34' | 3.33 nm/mrad |
50 mm x 50 mm x 9.5 mm | 600 | 5° 9' | 1.67 nm/mrad | |
12.7 mm x 12.7 mm x 6 mm | 1200 | 10° 22' | 0.82 nm/mrad |
我們提供不同閃耀角的光柵,滿足需要重點考慮效率的多種光譜學和分析應用。需要更多信息請點擊上方光柵教程標簽。我們還提供全息光柵,它們不會產生鬼影效應,但是效率 低。
請注意,這些光柵的反射鋁膜是 的,而且沒有保護鍍膜。但是可以定制MgF2或金膜來保護光柵的鋁膜表面。金膜在紅外波段的性能 ,而MgF2膜提供 保護
注意
光柵很容易被潮濕、指紋、氣溶膠或任意摩擦材料的輕微接觸而損傷。光柵只能在必要時才拿取,而且只能通過邊緣夾持。應佩戴橡膠手套或類似的防護套,以防止手指上的油污接觸光柵表面。清潔時只能使用凈化的干燥空氣或氮 掃光柵,其它任何操作都是不允許的。溶劑很可能會損傷光柵表面。