詳細說明
XUV® 系列設備的真空測量室能夠通過 X 射線熒光分析 (RFA) 檢測原子序數從Na(11)開始的輕元素。由于空氣會吸收輕元素的熒光X射線,因此在大氣環境中通常無法使用該方法。因此,該儀器非常適合對要求嚴苛的鍍層厚度進行測量和材料分析。
特性:
● 檢出限低、重復精度高,以及測量適用性廣,因此特別適用于研究和開發使用
● 配備真空測量室和高性能硅漂移探測器,能夠實現精確測量,尤其是對輕元素的測試
● 通過可編程 X、Y 和 Z 軸進行自動測試
● 準直器和濾波器可切換,因此可適用于各種材料和測試條件
應用:
涂層厚度測量
● 原子序數從Na(11)開始的輕元素鍍層,可測量厚度低至納米級
● 鋁鍍層和硅鍍層
材料分析
● 測定寶石的真偽與原產地
● 常規材料分析和取證
● 高分辨率痕量分析