紫外曝光機
型號: MA6
廠家: 德國Karl Süss公司
技術指標:
曝光光源:UV1000
光源波長:365nm
光源均勻性:<3.1%
晶片尺寸:2-6英寸
接觸方式:真空,低真空接觸, 硬接觸, 軟接觸和接近式接觸
對準模式:正和背面兩種對準方式
最小線寬:0.5 μm
對準精度: ±0.5 μm
主要功能及應用范圍:
采用紫外光源,制作亞微米(最小線寬0.5 μm)的圖形。可用于各種微器件的制作和低維人工結構的形成,如制作下列器件結構:微電子器件,光電子器件,生物傳感器,微機電系統,超導電子學器件,磁電子學器件等,也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。
主要附件: 涂膠機;HP8熱板;顯影機,光學顯微鏡