JA成立后2年內,AJA就研發出了的ATC系列濺射系統,共焦濺射設備,帶旋轉基片和原位偏轉磁控濺射靶源。技術突破實現了薄膜均勻性,并且可以控制單層、多層以及合金薄膜沉積。
AJA專注磁控鍍膜及PVD領域長達30多年,在各類別細分領域應用方面從研發到兼顧批產有著穩定的經驗。
AJA不僅提供成熟的研發和批量工藝,并且在的研究和應用領域,比如:聲學膜、光學膜、磁學電學復合或多層多類別單膜、金屬膜及合金薄膜等方面均有好的應用。其磁控核心部件如靶槍等更是廣為使用。
在集成化,多腔室應用方面,AJA也足具經驗,從實驗室到新興材料電子行業都在積極吸收和采納AJA的解決方案。
AJA進入中國市場首先以客戶(科研院所和企業)為主要應用,其中有接近一半是用戶慕名主動采購。