應用范圍
碳化硅刻蝕
刻蝕后表面清潔
氧化硅或氮化硅刻蝕
刻蝕后表面清潔
介質與介質間光阻去除
表面殘留物清除
產品優勢
暫無數據
應用案例
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設備整體參數
自動化程度 | 半自動 |
PLASMA電源 | RF+BIAS |
尺寸(L*W*H) | 1140*1050*1620mm |
適用范圍 | 4-8寸 |
單次處理片數 | 1 |