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納米氧化鈰分散機，高剪切分散機，乳化分散機，高剪切乳化分散機，管線式分散機，管線式分散混合機，間歇式乳化分散機，間歇式高剪切分散機，高速分散機,攪拌分散機,乳化分散機,高剪切乳化分散機,小型分散機,剪切分散機
所謂納米材料，是指微觀結構至少在一維方向上受納米尺度（1nm——100nm）調制的各種固體超細材料，它包括零維的原子團蔟（幾十個原子的聚集體）和納米微粒；一維調制的納米多層膜；二維調制的納米微粒膜（涂層）；以及三維調制的納米相材料。簡單地說，是指用晶粒尺寸為納米級的微小顆粒制成的各種材料，其納米顆粒的大小不應超過100納米，而通常情況下不應超過10納米。目前，上將處于1—100nm納米尺度范圍內的超微顆粒及其致密的聚集體，以及由納米微晶所構成的材料，統稱為納米材料，包括金屬、非金屬、有機、無機和生物等多種粉末材料。 納米材料按其結構可以分為四類：具有原子蔟和原子束結構的稱為零維納米材料；具有纖維結構的稱為一維納米材料；具有層狀結構的稱為二維納米材料；晶粒尺寸至少一個方向在幾個納米范圍內的稱為三維納米材料。還有就是以上各種形式的復合材料
影響分散乳化結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
納米氧化鈰分散機*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級 |
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 18 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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設備咨詢（上海依肯 蔡）
