ADEPT 1010 動態二次離子質譜儀

優勢

● ULVAC-PHI 新設計的四極桿-二次離子質譜儀 ADEPT 1010，在原有的 PHI 6300 和 PHI 6600 的基礎上，改善了離子光學系統，是在一次離子能量低至 250eV 時，仍保持有效的濺射束流的動態二次離子質譜系統（D-SIMS）。

特點

● 大束流低能量離子槍設計，提高了深度分辨率

● 高性能離子光學系統，改善了二次離子傳輸效率，在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

● 高精度全自動 5 軸樣品操控臺

● 不同方向進入檢測器的二次離子，均可被高靈敏地收集檢測

應用實例分析

● 采用一次離子源 Cs 在加速 5kV 束流為 100nA 的條件下，分析 GaAs 中注入的 H，C，O 元素。可以看到 H 檢測限值 7.1 × 10¹⁶ atm/cm³，O 檢測限值 4.4 × 10¹⁵ atm/cm³，C 檢測限值 2.0 × 10¹⁵ atm/cm³。