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SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯系統

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具體成交價以合同協議為準

公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
品牌
型號定制
所在地上海
廠商性質其他
更新時間2024/5/15 9:19:22
訪問次數75

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公司介紹主營產品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領域的設備銷售、系統集成、設備國產化的公司。主要為高校、研究所、中試量產線及晶圓FAB廠提供半導體工藝設備、檢測設備、封裝設備、測試設備。目前公司已成為國內少數幾家專業提供半導體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業。公司主要成員為復旦大學、上海微系統所等半導體相關專業博士，擁有一支經驗豐富、技術過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務。目前公司已與眾多國際半導體設備企業建立了良好的合作關系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據用戶的科研方向和量產的器件類別提供相應的全套設備選型和工藝整體解決方案。

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產品簡介在線詢價

SENTECH 多腔系統包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口。可使用多達兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。

SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯系統產品信息

沉積刻蝕多腔互聯系統

RIE&CVD Cluster System

● 高產能：等離子蝕刻和沉積腔體可與多達兩個片盒站組合，用于到 200 mm 晶片的高產量工藝。

● 研發：三到六個端口傳送腔室可用于集成 ICP 等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD 和 ICPECVD 沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可通過預真空室和/或真空片盒站加載。

● 高質量的多腔系統：ICP-RIE 等離子刻蝕腔體可與兩個片盒站組合用于 200mm 晶片的高產量并行工藝。

● ICP-RIE，RIE，PECVD 和 ICPECVD 等腔體可與預真空室，片盒站等組合使用，以滿足研發的特殊要求。

● SENTECH 多腔系統包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口。可使用多達兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。