用于定制微流體裝置和培養箱
適用于任何定制的腔室或板。可用于長期成像。裝有加熱的底部,用于混合氣體的魯爾鎖孔(以控制CO2或低氧)和加熱的蓋子,以防止冷凝。內置用于油管和附件,探頭和傳感器的多個端口。 腔室和裝置可以直接在玻璃底部上形成。一個可移動的側面為管道提供了多個開口。 適用于所有品牌的電動舞臺和Zeiss K型舞臺。可以與一組可調節的管架一起使用,以定位灌注管,以進行連續的介質交換,前提是內部裝有可選的插入件,并且已安裝了微型管架MH-MIS。底部是封閉的(對于開放式底部培養箱,要使用浸入式物鏡,請考慮使用其他型號的TC-MWP)。
?外形尺寸:適合電動平臺的160x110mm切口; 底部凹入到電動平臺頂部表面以下10mm(安裝表面以下7mm)的位置,并且可以使用隨附的3mm墊片將其升高;
?光學窗和間隙: 112x72mm; 從樣品到頂面33mm; 可選的墊片可將頂面提升9.5mm-在培養箱內提供更多空間
?無冷凝蓋:使用內置溫度傳感器獨立連接到溫度控制器的第二個通道,即81x121mm光學窗口
?氣口:魯爾鎖連接器,用于混合氣源(CO2-O2-MA控制器)
?媒體交換和灌注:多個密封的進/出端口,可選的一組可調管架,用于將進出管放置在樣品室內
?底部加熱: 1mm玻璃
?穩定性: 0.01°C
配件:
溫度控制器
氣體控制器
加熱加濕器