MATRIX-F近紅外光譜儀

傅立葉近紅外分析技術的實時在線監控的優勢已。然而，傳統的光譜儀只能安裝在靠近監控生產線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環境中。而且，測量點有時很難接近，甚至是防爆等危險區。

通過利用光纖技術，MATRIX-F 主機可與實測點相距數百米，將探頭直接安裝在采樣點，大大簡化了工業現場測試的難度。此外，當環境特別惡劣時可將主機置于帶空調的工業小屋內，這樣可以消除溫度影響，進一步優化光譜儀的性能，還可以保護 MATRIX-F，防止其遭受過度污垢和灰塵。

常見的過程控制包括監測化學反應以及中間產品和成品的質量：

•  直接監測生產反應器和管道中樣品

• 遠距離測量

• 加深過程理解和控制

• 用于測定不同行業混合過程均勻性、化學品組分濃度和聚合過程狀態的理想工具

MATRIX-F 是目前的只用一臺儀器就可對物料進行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用：

• 光纖探頭：可根據需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據物料性質選擇配置不同材質的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷

• 非接觸式測量的發射探頭：非接觸式發射探頭內置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進行遠程非接觸式測量，實現一系列全新應用。它可以提供多達六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F duple。