半導體真空無氧烘箱

半導體真空無氧烘箱工作原理

抽真空：通過高效的真空泵系統，將烘箱內部抽至接近真空狀態，有效消除空氣中的氧氣、水分及其他雜質，為材料處理提供一個極為純凈的環境。這一步驟是防止材料在高溫下發生氧化、變色或性能退化的關鍵。

充氮氣：向烘箱內充入高純度的氮氣，氮氣作為惰性氣體，能有效隔絕氧氣，進一步保護材料免受氧化影響。

加熱：利用加熱元件對烘箱內部進行均勻加熱，實現對材料的快速、高效烘干處理。

半導體真空無氧烘箱技術特點

高效節能：由于真空環境下水的沸點降低，烘干時間大大縮短，能源利用效率顯著提高。

無氧環境：通過嚴格的真空和氮氣保護，確保了材料在固化過程中不會受到氧氣、水分等雜質的干擾，從而保持了其優異的性能。

均勻加熱：烘箱內部采用加熱系統和循環風設計，確保溫度分布均勻，避免了局部過熱或溫度不均的問題。

精確控制：現代半導體真空烘箱普遍配備有智能控制系統，能夠精確控制溫度、真空度及氮氣流量等參數，實現自動化操作。

適用范圍廣：適用于多種物料的干燥，包括粉體、顆粒、片狀、薄膜等，以及需要避免氧化或高溫下變質的物料。

自動化程度高：現代真空無氧烘箱通常配備有控制系統和人機交互界面，能夠實現自動化操作和遠程監控，提高生產效率和安全性。

保護物料：在無氧環境下進行干燥，可以有效避免物料在高溫下與氧氣發生反應，從而保護物料的色澤、氣味和營養價值等。

清潔度高：烘箱內部通常采用不銹鋼等耐腐蝕材料制成，易于清潔和維護，保證了物料在干燥過程中的清潔度。

靈活性好：烘箱的設計通常具有一定的靈活性，可以根據物料的特性和干燥要求進行調整和優化，如調整加熱功率、真空度等參數。

應用領域

1、光刻工藝：在半導體制造的光刻工藝中，BCB（苯并環丁烯樹脂）作為一種活性樹脂，廣泛應用于晶圓表面的涂層。BCB在350℃的無氧條件下能形成熱固性聚合物，具有良好的電絕緣性能。真空無氧烘箱通過創造無氧環境，確保BCB在高溫下穩定固化，避免了氧化反應對材料性能的影響。

2、MEMS智能傳感器芯片生產：MEMS（微機電系統）智能傳感器芯片的生產過程中，需要對微結構進行精確加工和熱處理。真空無氧烘箱能夠提供一個純凈、無氧的環境，確保微結構在高溫處理過程中不會受到氧化、污染等不良影響，從而提高了芯片的成品率和性能穩定性。

3、銀膠固化與鍍金工藝：在半導體封裝過程中，銀膠固化和鍍金工藝是確保封裝質量的關鍵環節。真空無氧烘箱通過提供無氧環境，有效防止了銀膠在高溫下的氧化和鍍金層的污染，提高了封裝的可靠性和穩定性。

4、電子液晶顯示：用于PI膠、BCB膠固化，鍵合材料預處理，ITO膜退火，PR膠排膠固化等特殊工藝。

5、半導體封裝：銀膠固化和鍍金工藝是確保封裝質量的關鍵環節，真空無氧烘箱通過提供無氧環境，有效防止了銀膠在高溫下的氧化和鍍金層的污染，提高了封裝的可靠性和穩定性。

6、醫藥行業：雖然傳統真空烘箱在原料藥大生產上已很少應用，但真空無氧烘箱在醫藥中間體和原料藥的烘烤和提純中仍具有應用價值，有助于提高藥品的質量和生產效率。

7、其他領域：還廣泛應用于CMOS、IC、PCB板、實驗室及航空航天、汽車制造、化工等領域。

技術參數

溫度范圍：至少室溫+20℃～+350℃可調

升溫速率：3-5℃/min

進氣量：協商

含氧量“協商

溫度控制器顯示精度：0.1

抽氣：協商

溫度波動度：±1℃

真空度：協商

控溫儀表：7寸觸摸屏

降溫方式：水冷

溫度均勻度：≤±2.0%℃ (空載)

氣體：可充氮氣或壓縮空氣

控制回路保護：短路及過載保護

循環風方式L：水平循環運風

操作與維護

操作：半導體真空烘箱的操作通常包括準備工作、樣品裝載、設定參數（如溫度、真空度、氮氣流量等）、啟動烘箱、監控過程以及取出樣品等步驟。具體操作流程可能因設備型號和制造商的不同而有所差異。

維護：為確保半導體真空烘箱的長期穩定運行和延長使用壽命，需要定期進行維護和保養。這包括清潔烘箱內部和外部、檢查加熱元件和溫度傳感器的工作狀態、校準控制系統以及更換磨損的部件等。