菏澤力芯電子科技有限公司設計生產 半導體清洗設備、CDS系統、電化學鍍設備各種石英存儲柜、閥箱、花籃、閥門、泵、接頭PFA焊接機等。
半導體清洗設備:包含手動/自動/半自動槽式清洗機、全自動去膠機、自動混酸蝕刻機、單片清洗機等等 ,可根據客戶需求定制產品
CMP預清洗機是一種用于化學機械拋光(CMP)工藝前的晶圓清洗設備,主要用于去除晶圓表面的雜質和殘留物,以確保CMP工藝的順利進行。
現代CMP預清洗機通常采用高度自動化的設計,能夠實現精確控制和遠程監控,提高操作效率和安全性。同時,該設備設計有排風系統和漏液檢測系統,便于維護,提高了設備的安全性和可靠性。
應用領域
CMP預清洗機廣泛應用于半導體制造領域,特別是在晶圓級預燒、磁性退火、黏晶固化、穩定性測試、熱沖擊處理等工藝中,對晶圓的清洗要求很高。
選擇建議
在選擇CMP預清洗機時,用戶應考慮其清洗能力、設備安全性、環保性能等多個因素。同時,還應關注設備是否具備特定的功能如自動補液、藥液循環過濾等,以確保獲得很佳的清洗效果和經濟效益