菏澤力芯電子科技有限公司設計生產 半導體清洗設備、CDS系統、電化學鍍設備各種石英存儲柜、閥箱、花籃、閥門、泵、接頭PFA焊接機等。
半導體清洗設備:包含手動/自動/半自動槽式清洗機、全自動去膠機、自動混酸蝕刻機、單片清洗機等等 ,可根據客戶需求定制產品
EKC濕法槽式清洗機是一種廣泛應用于半導體制造、醫療機械清洗等領域的設備,其主要功能包括去膠、酸洗、中和清洗和烘干等步驟。
去膠是EKC濕法槽式清洗機的重要功能之一。
在這一步驟中,設備會使用含有氧化劑和酸性物質的化學溶液,通過化學反應使光刻膠溶解或變得容易去除。同時,機械拋動作用能夠加速化學溶液與光刻膠的接觸,促進反應的進行。酸洗過程中,EKC濕法槽式清洗機會將工件浸泡在酸性溶液中,利用酸性溶液的化學作用去除表面的氧化物和雜質。這一過程能夠有效清除表面的污染物,提高工件的潔凈度。在去膠和酸洗之后,EKC濕法槽式清洗機會進行中和清洗。這一步驟使用中和溶液來中和殘留在工件表面的化學溶劑和電解液,避免對后續工藝造成影響。最終步驟是對工件進行烘干處理。EKC濕法槽式清洗機會通過熱風或其他加熱方式,將工件表面的水分蒸發干凈,確保工件表面干燥無水漬。