離子濺射儀（非磁控）

離子濺射儀（非磁控）

離子濺射儀（非磁控）

簡介：
此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

主要特點：
顯示操作面為60°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；
真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；
微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；
真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

技術參數：
1. 玻璃處理室：Φ108mm,高度135mm;
2.試樣臺尺寸：Φ40mm,可同時放6個樣品杯；
3.金靶尺寸：Φ57mm;
4.真空系統：直聯旋片真空泵2L/S；
5.真空檢測：定制皮氏計，配合真空指針表，靈敏；
6.真空保護：20pa配有微量充氣閥調節工作真空；
7.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣進氣口和微量充氣節；

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