德國Hellma CaF2:Eu晶體材料適用于激光光學(xué)器件
德國Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司,由Karl Mayer創(chuàng)立。Hellma最初以生產(chǎn)簡單的光學(xué)玻璃比色皿起家,這些產(chǎn)品主要用于旋光、比色和分光光度測試。隨著科學(xué)行業(yè)的興旺,特別是五十年代,比色測試成為了定性分析和定量分析的常用方法,Hellma也積極開發(fā)和擴(kuò)展其產(chǎn)品系列以滿足新型比色皿的迅速增長需求。
主要產(chǎn)品:
Hellma比色皿
Hellma晶體材料
Hellma光學(xué)材料
Hellma光學(xué)玻璃
Hellma光學(xué)元件
Hellma晶體材料CaF2:Eu
抗震性和抗熱沖擊能力:CaF2:Eu晶體具有很強(qiáng)的抗震性和抗熱沖擊能力,這使得它能夠在惡劣的環(huán)境中穩(wěn)定工作。
機(jī)械加工性能:該晶體具有良好的機(jī)械加工性能,便于制造成各種形狀和尺寸的探測器。
探測能力:CaF2:Eu晶體在低能伽馬射線和帶電粒子(尤其是β射線)探測方面表現(xiàn)出色,廣泛應(yīng)用于低能核物理實(shí)驗(yàn)和相關(guān)領(lǐng)域。
閃爍性能:作為一種閃爍晶體,CaF2:Eu在受到輻射照射時能夠產(chǎn)生閃爍,這些閃爍可以被光電倍增管(PMT)或其他探測器轉(zhuǎn)換為電信號,用于輻射的檢測和測量。
應(yīng)用領(lǐng)域:由于其優(yōu)異的閃爍特性和探測能力,CaF2:Eu晶體被廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測、核醫(yī)學(xué)、高能物理、安檢以及核素識別等領(lǐng)域。
光學(xué)特性:作為Hellma品牌的光學(xué)材料,CaF2:Eu晶體繼承了CaF2基質(zhì)材料的優(yōu)良光學(xué)特性,包括高寬帶透射率、低折射率和低光譜色散,使其在UV、VIS和IR光譜范圍內(nèi)都有出色的表現(xiàn)。
激光耐久性:CaF2:Eu晶體具有出色的激光耐久性,適用于Excimer激光光學(xué)器件(157nm、193nm、248nm)。
高能粒子和輻射耐受性:該晶體還具有合格的高能粒子和輻射耐受性,使其能夠在高輻射環(huán)境下使用。
型號示例:
Hellma晶體材料CaF2:Eu
Hellma晶體材料LBC:Ce
Hellma晶體材料CeBr3
Hellma晶體材料Yb3+
Hellma晶體材料BaF2
Hellma晶體材料CaF2
Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide
Hellma晶體材料Cleartran
Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide
德國Hellma CaF2:Eu晶體材料適用于激光光學(xué)器件