本設備研磨腔所有配置單元——研磨缸,分散盤,襯套,壓蓋,前后蓋封板,出料篩圈等全部為釔穩定氧化鋯(YZr)組成,高耐磨,無污染。研磨盤有*的線速度,(zui高達到25米每秒),配置極小的研磨微珠(zui小可以為0.2mm),高效的研磨系數,使得產品達納米的細度(zui高達50納米)。采用篩圈的分離作用,使物料和介質在研磨筒的尾端產生分離,后出料。
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本設備研磨腔所有配置單元——研磨缸,分散盤,襯套,壓蓋,前后蓋封板,出料篩圈等全部為釔穩定氧化鋯(YZr)組成,高耐磨,無污染。研磨盤有*的線速度,(zui高達到25米每秒),配置極小的研磨微珠(zui小可以為0.2mm),高效的研磨系數,使得產品達納米的細度(zui高達50納米)。采用篩圈的分離作用,使物料和介質在研磨筒的尾端產生分離,后出料。
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