光學玻璃用純水設備在設備設計上,采用成熟、可靠、*、自動化程度高的兩級RO EDI 精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流*可靠產品,采用PLC 觸摸屏控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性
為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。系統中水箱均設有控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。
光學玻璃用純水設備中反滲透設備的工作原理
反滲透是較精密的膜法液體分離技術,在進水(濃溶液)側施加操作壓力以克服自然滲透壓,當高于自然滲透壓的操作壓力離加于濃溶液側時水分子自然滲透的流動方向就會逆轉,進水(濃溶液)中的水分子部份通過反滲透膜成為稀溶液側的凈化產水;反滲透設備能阻擋所有溶解性鹽及分子量大于100的有機物,但允許水分子透過,反滲透復合膜脫鹽率一般大于98%,它們廣泛用于工業純水及電子超純水制備,飲用純凈水生產,鍋爐給水等過程,在離子交換前使用反滲透設備可大幅度降底操作用水和廢水的排放量。
產品的工藝比較
目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面:
1、*種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少,占用的地方少,但缺點就是需要經常進行離子再生,耗費大量酸堿,而且對環境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備,其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,但離子設備再生周期相對要長,耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置,這是目前制取超純水較經濟,較環保用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水,對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
應用范圍:
1.應用于半導體、實驗室、生物工程、制藥工業、精密電子、化工、科研單位、醫療行業。
2.半導體、單晶硅、集成電路、超大規模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學、光電類器件,各種電子器件,微電子工業、IC 芯片封裝行業,太陽能硅片清洗、 LCD 清洗等.
3.醫藥行業用水,生物、生化實驗室用水,制藥行業,無菌、無熱源注射用水、制劑工藝用水,醫院血液透析用水、生化分析用水、輸液醫藥用水等。
4.熱電廠用水處理、冶金工業用水處理、航天工業、汽車工業等.
5.制取熱力、火力、渦輪發電鍋爐用水,廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。