希而科優勢供應 EFTEC 噴嘴

噴嘴用來供應光刻膠和各種有機溶劑，每一個噴嘴對應一種材料，如圖1 [1]  所示。在整個光刻工藝中，除了曝光，其余所有的步驟都是在勻膠顯影機中完成的。勻膠顯影機的主要工藝單元分別有晶圓表面增粘處理，光刻膠旋涂單元，邊緣曝光，顯影單元等，這些單元的裝置都離不開噴嘴。

晶圓表面增粘處理:

有些晶圓表面是親水的，這不利于光刻膠的涂覆。在這種情況下，通常首先對晶圓表面做增粘處理，這是在勻膠顯影機的增粘單元中進行的。在真空腔中裝入晶圓后封閉腔體。晶圓在腔體中加熱到一定的溫度，同時通過噴嘴將六甲基二硅胺（HMDS）氣相引入或直接噴淋在晶圓表面，使其直接由親水性變成疏水性。

1. 光刻膠旋涂單元：

（1）EBR（edge bead remove）噴嘴是指去邊溶劑噴嘴。有機溶劑從去邊噴嘴中傾斜向外噴在晶圓的邊 緣，同時晶圓以一定的速度旋轉，清洗晶圓的邊緣。

（2）膠噴嘴：如圖2 [1]  所示，不僅僅局限于光刻膠，也可以用于旋涂抗反射涂層和防水頂蓋圖層。

（3）背沖洗噴嘴：如圖2所示，也用來噴淋溶劑，在離心力的作用下，噴淋的溶劑清洗晶圓背面的邊緣區域。

2. 顯影單元：顯影單元包含一個轉臺和幾個噴嘴，幾個噴嘴分別用于噴灑顯影液，去離子水以及表面活化劑。顯影液的噴淋分為兩種方式：靜態噴淋盒動態噴淋，顯影液噴嘴可以分三類，如圖3 [1]  所示：

（1）掃描式細長噴口

（2）多個噴嘴動態噴淋

（3）單個噴嘴動態噴淋

目前的的顯影噴嘴設計，一般是把幾個不同的噴嘴集成在一個機械臂上。

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