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北京正通遠恒科技有限公司
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脈沖激光沉積系統Pioneer 180 PLD是一款用于在各種襯底上制備多種材料的高質量外延薄膜、多層異質結構和超晶格的交鑰匙PLD系統。該PLD系統與 Pioneer 120 Advanced PLD System系統的主要區別在于，具有更大的沉積模塊，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升級。
產品簡介
Pioneer 180 PLD系統是一款用于在各種襯底上制備多種材料的高質量外延薄膜、多層異質結構和超晶格的交鑰匙PLD系統。該PLD系統與 Pioneer 120 Advanced PLD System系統的主要區別在于，具有更大的沉積模塊，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升級。Pioneer 180 PLD系統集成了兼容氧的輻射加熱臺。加熱器可兼容1大氣壓(760托)的氧氣，這是一種特性助于制備外延氧化膜，即滿足了(i)沉積在氧氣中，(ii)沉積后退火在氧氣中，以及在接近1大氣壓的氧氣中冷卻。襯底連續旋轉，并可以負載鎖定。Pioneer 180 PLD系統包括一個自動多目標旋轉、目標光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標選擇。閉環壓力控制提供了使用質量流量控制器的精確過程壓力控制。干式泵是由機械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統軟件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加熱器，目標轉盤，過程壓力，系統泵和激光觸發。由于襯底可以轉移，多種選擇變得可行。這些包括但不限于將PLD系統與各種其他沉積平臺(如特高壓濺射系統)集成，也與特高壓分析系統(如XPS/ARPES等)集成。
產品特點
•外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積。
•使用原位RHEED診斷技術沉積納米級薄膜。
•氧化膜沉積的氧相容性。
•升級:離子輔助PLD，組合型PLD，目標襯底負載鎖定。
•其他沉積源:脈沖電子沉積(PED)，射頻/直流濺射，直流離子槍。
•與XPS /ARPES特高壓集群工具集成，原位特高壓晶片轉移。
•原位診斷:低角度x射線光譜學(LAXS)和離子能光譜學(IES)。
技術參數
Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A | |
*wafer 直徑 | 8" | 6" | 2" |
*靶材數量 | 6 個1" 或3 個2" | 6 個1" 或3 個2" | 6 個1" 或3 個2" |
壓力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
真空室直徑 | 24" | 18" | 12" |
基片加熱器 | 360°旋轉 | 360°旋轉 | 360°旋轉 |
樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃（升級1000 ℃） | 950 ℃ |
Turbo 泵抽速* | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉 | 包括 | 包括 | 選件 |
基片預真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
掃描激光束系統 | 包括 | 選件 | - |
靶預真空室 | 包括 | 選件 | - |
IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
CCS 連續組成擴展 | 選件 | 選件 | - |
高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
... ... |
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