高純水設備

高純水設備，作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。
EDI高純水設備作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。

特征及性能:
全套配置齊全，一體化結構，占地面積少，安裝使用方便；工藝*、設計合理、可連續生產純水，無需酸堿再生；維護簡單、運行費用低；全自動運行，具有缺水保護和低壓保護等安全保護裝置。

主要用途
化妝品行業:護膚品生產用純水、洗發水生產用純水、染發劑生產用純水、牙膏生產用純水 、洗手液生產用水
電子工業：鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗；液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水
電池行業：蓄電池生產用純水、鋰電池生產用純水。

混凝土外加劑配制用純水、玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水紡織印染工業：印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水超聲清洗用純水
涂裝行業：涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水