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詳細介紹
光電行業用超純水設備
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
光電行業用超純水設備參數
| 操作壓力 | 水電阻率 | 出水量 | 水質 | 外形尺寸 | 電壓 | 功率 | 電導率 | 脫鹽率 | 單機出力 |
小于1.6 （Mpa） | 18 | 3噸/小時 | 200 | 1000*3000 （cm） | 380 （V） | 5.5 （w） | 10 | 99.7（%） | 3 （/h）
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應用場合：
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
☆高品質顯像管、螢光粉生產；
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；
☆實驗室和中試車間；
☆汽車、家電表面拋光處理；
☆光電產品；
☆其他高科技精微產品；
光電行業水質標準：
我公司電子級超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
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