集成電路塊用超純水設備

一、集成電路塊用超純水設備概述

　　隨著電子行業的迅速發展，對集成電路塊的生產用水要求也越來越高。集成電路的質量越高，對水質的要求就越嚴格。

二、優勢說明

　　(1)系統采用新水處理技術單級RO混床模塊化設計，嚴格按新技術設計標準，確保水質穩定，*運行。

　　(2)通過專業技術設計，確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。

　　(3)通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。

　　(4)通過完善的技術，*限度的提高系統回收率，降低能耗和運行成本。

　　(5)采用CPA3-LD超低壓膜，運行穩定，能耗低。

　　(6)采用PH調節系統。

　　(7)配備專門的有化學清洗系統，可定期對反滲透進行化學清洗，以確保系統穩定運行。

　　(8)配備濃水置換專業技術，防止膜系統受到微生物污染。

　　(9)采用PLC加觸摸屏控制系統，并采用進口電氣原件，操作方便，運行穩定。

　　(10)主題材料全部采用行業內，保質保量，并按配置設計。

　　三、各部件功用

　　1)、原水箱，功用：貯存系統原水，對進水起調節作用，也對進水中的雜質起一定的沉淀作用。

　　2)、砂濾器，功用：初步去除水中泥沙、雜質、懸浮物以及其它微粒等降低水的濁度。

　　3)、碳濾器，功用：利用碳的吸附原理吸附水中異色、異味、余氯等。

　　4)、保安過濾器，功用：防止大顆粒雜質進入反滲透膜，造成對膜的損壞，保護反滲透膜。

　　5)、PH調節,功用：通過加堿調節，調節二級反滲透進水PH值在8左右，以脫除CO2，保證二級反滲產水水質，確保EDI產水及終端產水的穩定。

　　6)、一級純水箱，功用：儲存反滲透產水，為二級反滲透系統提供水源。

　　7)、雙級反滲透主機，功用：主要是通過反滲透過濾，達到生產純水之目的(二級反滲透能*程度確保產水水質，使EDI產水水質更穩定及核能樹脂的使用壽命更長)。

　　8)、CEDI系統，功用：CEDI系統又稱連續電除鹽技術，通過陽陰離子膜對陽陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生。

　　9)、紫外線殺菌器，功用：通過紫外線殺死水中細菌，確保水質。

　　10)、膜濾器功用，功用，濾除紫外線殺死的細菌及其它微粒。

　　11)、雙級核能混床，功用：進一步去除水中的離子，使產水水質達到18MΩ·CM。

　　12)、TOC脫除器，功用：脫除水中的TOC，確保水質。

　　13)、終端0.1μm膜濾器，功用：杜絕有顆粒物時入超純水使用點。

　　四、集成電路塊用超純水設備的工藝流程

　　1、采用雙級級反滲透方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→*級反滲透→PH調節→中間水箱→第二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

　　2、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點