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沈陽科晶自動化設備有限公司
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SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(公、自旋轉靶頭)
產品簡介:SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(公、自旋轉靶頭)適用靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環形永磁體在靶頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。
產品型號 | SKCC-GZB-X(高真空磁控濺射公、自旋轉靶頭) |
產品規格 | 1寸,SKCC-GZB-1 2寸,SKCC-GZB-2 3寸,SKCC-GZB-3 4寸,SKCC-GZB-4 注:其它尺寸可以訂制 |
主要特點 | 1、轉靶帶擋板(可實現每次露出一個工作的靶,避免交叉污染); 2、采用電磁場的有元計算法來設計永磁體,以得到較高的磁場強度和均勻分布; 3、轉靶轉速5~60轉/分可調; 4、標準的HN型接頭,可與DC和RF電源相匹配; 5、安裝采用標準真空法蘭(CF金屬密封或Dg膠圈密封可選); 6、靶材更換較為簡單,無需調整濺射頭的高度。 |
配套電源 | 1、直流DC;2、射頻RF |
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