蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 15用于材料領域,LS 15用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。
一、蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 15/LS 15用途
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
二、掃描電子顯微鏡（蔡司）EVO MA 15/LS 15技術參數
1、分辨率：2.0nm@30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm@30KV(SE and W) 4.5nm@30KV(VP with BSD)
2、加速電壓：0.2—30KV
3、放大倍數：5—1000000x
4、視野范圍：6mm
5、X-射線參數：8.5mm WD，35度接收角
6、壓力范圍：10—400Pa (LS15:10-3000Pa)
7、工作室：365mm(φ)×275mm(h)
8、5軸優中心自動樣品臺：X=125mm Y=125mm Z=50mm T=0-90°R=360°
9、試樣高度：145mm，試樣直徑：250mm
10、系統控制：基于Windows XP 的SmartSEM
三、電子顯微鏡（蔡司）主要特點
1、能在可變壓力下操作
2、X射線和EBSD分析
3、快速抽真空
4、未來的保證，可升級在高壓和水蒸氣下成像和分析
5、高亮度LaB6資源選擇
6、光線套選擇
7、可移動大平臺
四、掃描電子顯微鏡（蔡司）技術特點
1、通過網絡可遠程控制
2、在z軸上可機動化的移動50毫米并且在X和y軸上可移動125毫米
3、樣本高度增加到145毫米
4、改進了低真空圖像
5、X-射線分析技術
