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快速加熱高溫真空爐

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更新時間：2023-05-20 10:55:09瀏覽次數：156次

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產品簡介

快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精準控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短

詳細介紹

快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精準控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短。
快速加熱高溫真空爐HTFF1具有石墨或氧化鋁可移動棒樣品保持器,可用于在各種氣體環境下操作以控制樣品環境。
快速加熱高溫真空爐HTFF1樣品棒中心可快速加熱至900℃，穩定在在10%溫度范圍內。并且可提供在2分鐘內虧啊蘇加熱到1200攝氏度，然后將溫度降至900°C的模式
快速加熱高溫真空爐HTFF1采用同心套絕緣氧化鋁/氧化硅管包含軸向取向的碳化硅硅碳棒發熱。端部支撐法蘭在較高的工作溫度下水冷。氧化鋁工藝室為客戶提供潔凈、干燥、可控的大氣環境。穩定，可編程溫度控制，可提供手動或自動系統。
其他尺寸可供選擇。

快速加熱高溫真空爐HTFF1規格

Physical Characteristics:
整體尺寸（不含真空/氣體配置）	18"Long x 9" Wide x 10.5" High
標稱熱稱長	12 cm
樣品杠直徑	石墨或氧化鋁，1.25厘米
熱區域直徑	2.5 cm ID Alumina Tube
加熱元件	SiC 電阻
電源	240 VAC/40A Phase Control SCR
配置	Parker/Quick Flange/NPT
重	11 kg

操作特性
溫度控制	標準PID自動化控制
2000°C能	約 3.5kW
操作壓	1 atm.
工作（氣體）條件	惰性氣體或者真空
冷卻	水冷端蓋
熱區運行溫度	2000°C +
中心點溫度(+/- 1 cm)	C型熱電偶的精度在1°C以內。