EVG 510 晶圓鍵合系統是一款高效率的微結構光刻機。主要用于多層芯片制造,特別適用于需要高精度、高效率、低成本和高產量的高科技領域。這些領域包括半導體、通信、生物醫學、照明等。該系統的主要參數包括:處理尺寸,光源類型,分辨率,光強,光譜范圍等。每個參數都是關鍵因素,決定了系統的性能和生產效率。
主要特點及參數
● 高精度:系統具有高精度,可生產出精細的微結構,使樣品質量得到顯著提高
● 高效率:系統具有高效率,可以加速生產周期,提高生產效率
● 應用領域:主要應用于半導體、生物醫學、光電子等領域,適用于制造微納光學、微電子、生物醫學等產品
● 主要參數:系統的主要參數包括光譜范圍、光斑大小、鍵合深度、光功率、精度等
● EVG 510 晶圓鍵合系統具有易于操作和維護的優點,并配備了的技術和功能,以滿足客戶的不同需求。此外,該系統還具有靈活的擴展性和升級性,可以根據客戶的需求定制不同的配置方案。該系統是生產各種微結構產品的理想選擇,具有很高的價值
EVG 510 晶圓鍵合系統的工藝過程主要包括以下步驟:
1. 裝載芯片:將待處理的芯片裝載到系統內的工作臺上
2. 鍵合前準備:在鍵合前,系統會根據預先設置的參數對芯片進行預處理,以確保鍵合過程中的良好效果
3. 鍵合:使用光源將兩層芯片鍵合在一起,以形成多層芯片
4. 鍵合后處理:鍵合后,系統會對芯片進行后處理,以確保其質量