Wafer 晶圓測溫系統(tǒng) 測溫點數(shù)：1~68個

TC-Wafer晶圓溫度測量系統(tǒng) 晶圓溫度傳感器支持用戶定制

      TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面，對晶圓表面的溫度進(jìn)行實時測量。通過晶圓的測溫點了解特定位置晶圓的真實溫度，以及晶圓整體的溫度分布，同還可以監(jiān)控半導(dǎo)體設(shè)備控溫過程中晶圓發(fā)生的溫度變化，獲得升溫、降溫以及恒溫過程期間的溫度溫度數(shù)據(jù)，從而了解半導(dǎo)體設(shè)備的溫度均勻度。

TC-Wafer晶圓溫度測量系統(tǒng)利用熱電效應(yīng)來測量溫度。其基本原理是在晶圓表面埋入微小的熱電偶元件，當(dāng)晶圓表面溫度發(fā)生變化時，熱電偶產(chǎn)生微弱的電壓信號。通過測量這些電壓信號，可以準(zhǔn)確地計算出晶圓的溫度變化。
晶圓熱電偶溫度傳感器通過探針與晶片之間的熱電偶效應(yīng)來測量溫度。熱電偶是一種基于熱電效應(yīng)的傳感器，它可以將溫度轉(zhuǎn)化為電壓信號。當(dāng)探針與晶片接觸時，熱電偶會產(chǎn)生一個電壓信號，該信號被控制器接收并轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號。然后，數(shù)字信號被發(fā)送到顯示屏上進(jìn)行顯示。
在半導(dǎo)體工藝中，TC Wafer晶圓熱電偶可用于多種應(yīng)用場景，包括光刻、刻蝕、薄膜沉積等。其能夠?qū)崿F(xiàn)————的溫度控制，從而提高工藝的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性，提高產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。此外，其還可以用于廢料處理和設(shè)備維護(hù)等，提高生產(chǎn)效率和成本效益

產(chǎn)品優(yōu)勢

高精度：由于其直接嵌入在晶圓表面，可以實現(xiàn)對晶圓溫度的實時、精確監(jiān)測。

可靠性：傳感器材料穩(wěn)定，適應(yīng)長期運行，不易受到外界干擾。

高靈敏度：微小的溫度變化也能被傳感器準(zhǔn)確地捕捉，確保制程的穩(wěn)定性。

即時性：傳感器的實時性能使得生產(chǎn)線上的溫度調(diào)整能夠迅速響應(yīng)，減少生產(chǎn)過程中的溫度波動。

產(chǎn)品應(yīng)用

TC-Wafer晶圓溫度測量系統(tǒng)應(yīng)用于許多行業(yè)，包括快速熱處理 (RTP)、快速熱退火 (RTA)、曝光后烘烤 (PEB)、化學(xué)氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、ION 等應(yīng)用注入、太陽能電池和許多其他熱驅(qū)動工藝。智測電子具有高精度溫度測量與控制技術(shù)和經(jīng)驗，支持產(chǎn)品定制

TC-Wafer晶圓溫度測量系統(tǒng) 晶圓溫度傳感器支持用戶定制